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\title{Formelsammlung und Definitionen}
\author{Marvin Berger}

\begin{document}														% Hier
\maketitle

\section*{Einleitung}

Diese Sammlung und Formeln wurde von Marvin Berger erstellt und enthält noch keine richtige Einleitung.\\
Es werden sowohl Fachbegriffe genauer erläutert, als auch englische Fachbegriffe ins Deutsche übersetzt.
 
\newpage

\section*{Definitionen und Formeln}

\pagestyle{dictheadings} %% use scrpage or fancyhdr for a differnt layout

\dictchar{A}

\dictchar{B}

\dictchar{C}
\dictentry{coarse-grained }{}{}{}
  {}{}{}
  {grobkörnig}
\dictentry{CW - continuous waveform }{}{}{}
  {}{}{}
  {Dauerstrich. Eine ungedämpfte, zeitlich konstante Welle. In diesem Zustand sind Amplitude und Frequenz der Welle konstant.}

\dictchar{D}
\dictentry{dispersive }{}{}{}
  {}{}{}
  {streuend, dispergierend}
\dictentry{Dynamisches Quenching }{}{}{}
  {}{}{}
  {siehe Flureszenzlöschung}
  
\dictchar{E}
\dictentry{exhibit }{}{}{}
  {}{}{}
  {Anlage, Ausstellung, Darstellung, Beleg, Anhang}

\dictchar{F}
\dictentry{Fluoreszenzlöschung}{}{}{}
  {}{}{}
  {(engl. \textbf{Quenching}) bezeichnet Vorgänge, die eine Abnahme in der Intensität der Fluoreszenz eines Fluorophors zur Folge haben, ohne dass der Fluorophor zerstört wird.

Es existiert eine Reihe von Effekten, die zur Fluoreszenzlöschung führen können, beispielsweise: Komplexbildung, interne Konversion (internal conversion), Energieübertrag auf andere Moleküle.\\
\textbf{Dynamisches Quenching}:\\ Die Energie des angeregten Fluorophores wird durch den Zusammenstoß mit einem Quenchermolekül auf dieses Quenchermolekül übertragen, wobei die Energie letztlich in Wärme übergeht. Diese Art des Quenchings wird auch als Stoßlöschung bezeichnet. Die Verringerung der Fluoreszenz durch dynamisches Quenching kann mit der Stern-Volmer-Gleichung, speziell mit der Stern-Volmer-Gleichung für dynamisches Quenching, beschrieben werden.\\
\textbf{Statisches Quenching}:\\ Beim statischen Quenching bilden Fluorophor und Quenchermolekül einen Komplex, dessen Fluoreszenz verringert ist oder ganz ausbleibt. Durch die Komplexbildung wird die Konzentration fluoreszenzfähiger Fluorophore verringert. Die Verringerung der Fluoreszenz durch statisches Quenching kann mit einer Abwandlung der Stern-Volmer-Gleichung, der Stern-Volmer-Gleichung für statisches Quenching, beschrieben werden.\\
\textbf{Resonanz-Energie-Transfer}:\\ Strahlungsloser Übertrag der Energie vom angeregten Zustand des Fluorphors D (Donor) durch Resonanzeffekte auf ein zweites Molekül A (Akzeptor). Dadurch verringert sich die Fluoreszenz des Fluorophors D. Der Resonanz-Energie-Transfer kann über den Förster-Resonanzenergietransfer (FRET) beschrieben werden.
}
\dictentry{Fotolacke}{}{}{}
  {}{}{}
  {Fotolacke (englisch photoresist) werden bei der fotolithografischen Strukturierung verwendet, insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro- und Submikrometerbereich sowie bei der Leiterplattenherstellung. Die wichtigsten Ausgangsstoffe für Fotolacke sind Polymere (z. B. Polymethylmethacrylat, Novolak, Polymethylglutarimid) bzw. Epoxidharze (z. B. SU-8), Lösungsmittel wie Cyclopentanon oder Gamma-Butyrolacton, sowie eine fotoempfindliche Komponente.\\
  Als Belichten bezeichnet man die selektive Bearbeitung der Fotoschicht durch eine Belichtungsmaske oder Fotoschablone (Fotokopien des Leiterbildoriginals) mit dem Ziel, die Löslichkeit dieser Schicht durch eine fotochemische Reaktion lokal zu verändern. Die Belichtungsmasken bestehen aus einer UV-durchlässigen Trägerschicht, wie Quarzglas, und einer Absorberschicht, beispielsweise Chrom. Nach der fotochemisch erzielbaren Löslichkeitsveränderung unterscheidet man Fotolacke:\\

\begin{itemize}
    \item Negativlacke (engl. negative resist): Löslichkeit nimmt durch Belichten ab
    Positivlacke (engl. positive resist): Löslichkeit wächst durch Belichten.\\ Der Negativlack polymerisiert durch Belichtung und einem nachfolgenden Ausheizschritt zur Stabilisierung, das heißt, nach der Entwicklung bleiben die belichteten Bereiche stehen. Diese Fotolacke werden hauptsächlich in der Mikrosystemtechnik für die Produktion von kleinsten Strukturen im Mikro- und Submikrometerbereich eingesetzt.
    
    \item Positivlacke (engl. positive resist): Löslichkeit wächst durch Belichten.\\ Bei Positivlacken wird der bereits verfestigte Lack durch Belichtung wieder löslich für entsprechende Entwicklerlösungen, das heißt, nach der Entwicklung bleiben nur die Bereiche übrig, welche durch eine Maske vor der Bestrahlung geschützt sind und somit nicht belichtet werden.
\end{itemize}
}

\end{document}
\endinput

\textbf{…}:\\

\subsubsection*{…:}

\minisec{…:}

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\hyphenation{Fluo-res-zenz-lö-schung}

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\title{Formelsammlung und Definitionen}
\author{Marvin Berger}

\begin{document}
  \maketitle

  \section*{Einleitung}
    Diese Sammlung und Formeln wurde von Marvin Berger erstellt und enthält noch keine richtige Einleitung. Es werden sowohl Fachbegriffe genauer erläutert, als auch englische Fachbegriffe ins Deutsche übersetzt.

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  \section*{Definitionen und Formeln}
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    \colchunk[2]{Anlage, Ausstellung, Darstellung, Beleg, Anhang}
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    \colchunk[1]{\bfseries Fluoreszenzlöschung}
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      (engl. \textbf{Quenching}) bezeichnet Vorgänge, die eine Abnahme in der Intensität der Fluoreszenz eines Fluorophors zur Folge haben, ohne dass der Fluorophor zerstört wird. \newline
      Es existiert eine Reihe von Effekten, die zur Fluoreszenzlöschung führen können, beispielsweise: Komplexbildung, interne Konversion (internal conversion), Energieübertrag auf andere Moleküle.

      \textbf{Dynamisches Quenching}:\newline Die Energie des angeregten Fluorophores wird durch den Zusammenstoß mit einem Quenchermolekül auf dieses Quenchermolekül übertragen, wobei die Energie letztlich in Wärme übergeht. Diese Art des Quenchings wird auch als Stoßlöschung bezeichnet. Die Verringerung der Fluoreszenz durch dynamisches Quenching kann mit der Stern"=Volmer"=Gleichung, speziell mit der Stern"=Volmer"=Gleichung für dynamisches Quenching, beschrieben werden.

      \textbf{Statisches Quenching}:\newline Beim statischen Quenching bilden Fluorophor und Quenchermolekül einen Komplex, dessen Fluoreszenz verringert ist oder ganz ausbleibt. Durch die Komplexbildung wird die Konzentration fluoreszenzfähiger Fluorophore verringert. Die Verringerung der Fluoreszenz durch statisches Quenching kann mit einer Abwandlung der Stern"=Volmer"=Gleichung, der Stern"=Volmer"=Gleichung für statisches Quenching, beschrieben werden.\newline
      \textbf{Resonanz-Energie-Transfer}:\newline Strahlungsloser Übertrag der Energie vom angeregten Zustand des Fluorphors D (Donor) durch Resonanzeffekte auf ein zweites Molekül A (Akzeptor). Dadurch verringert sich die Fluoreszenz des Fluorophors D. Der Resonanz"=Energie"=Transfer kann über den Förster"=Resonanzenergietransfer (FRET) beschrieben werden.%
    }
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    \colchunk[1]{\bfseries Fotolacke}
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      Fotolacke (engl.\ \foreignlanguage{english}{photoresist}) werden bei der fotolithographischen Strukturierung verwendet, insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro- und Submikrometerbereich sowie bei der Leiterplattenherstellung. Die wichtigsten Ausgangsstoffe für Fotolacke sind Polymere (z. B. Polymethylmethacrylat, Novolak, Polymethylglutarimid) bzw. Epoxidharze (z.\,B.\ SU-8), Lösungsmittel wie Cyclopentanon oder $\gamma$"=Butyrolacton, sowie eine fotoempfindliche Komponente.\newline
      Als Belichten bezeichnet man die selektive Bearbeitung der Fotoschicht durch eine Belichtungsmaske oder Fotoschablone (Fotokopien des Leiterbildoriginals) mit dem Ziel, die Löslichkeit dieser Schicht durch eine fotochemische Reaktion lokal zu verändern. Die Belichtungsmasken bestehen aus einer UV"=durchlässigen Trägerschicht, wie Quarzglas, und einer Absorbierschicht, beispielsweise Chrom. Nach der fotochemisch erzielbaren Löslichkeitsveränderung unterscheidet man Fotolacke:
      \begin{itemize}
        \item Negativlacke (engl.\ \foreignlanguage{english}{negative resist}): Löslichkeit nimmt durch Belichten ab Positivlacke (engl.\ \foreignlanguage{english}{positive resist}): Löslichkeit wächst durch Belichten.\newline Der Negativlack polymerisiert durch Belichtung und einem nachfolgenden Aufheizschritt zur Stabilisierung, das heißt, nach der Entwicklung bleiben die belichteten Bereiche stehen. Diese Fotolacke werden hauptsächlich in der Mikrosystemtechnik für die Produktion von kleinsten Strukturen im Mikro"= und Submikrometerbereich eingesetzt.

        \item Positivlacke (engl. \foreignlanguage{english}{positive resist}): Löslichkeit wächst durch Belichten.\newline Bei Positivlacken wird der bereits verfestigte Lack durch Belichtung wieder löslich für entsprechende Entwicklerlösungen, das heißt, nach der Entwicklung bleiben nur die Bereiche übrig, welche durch eine Maske vor der Bestrahlung geschützt sind und somit nicht belichtet werden.
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